Шанхайскую Aishengna назвали производителем первого китайского иммерсионного DUV-сканера; уставный капитал компании — около $1 млрд.
По оценкам аналитиков, отечественный иммерсионный литограф отстаёт от мирового уровня примерно на десять лет, а серийное производство ожидается не ранее 2032 года.
Tokyo Electron контролирует около 90% рынка трековых линий, а Zeiss с 1983 года остаётся единственным поставщиком оптики для ASML.
Возможный запрет на обслуживание иммерсионных DUV-систем в Китае вынудит местные заводы переходить на незрелые отечественные альтернативы.
Кто стоит за первым китайским иммерсионным сканером
Агентство Reuters назвало государственную Shanghai Aishengna Electronic Technology Group производителем первых в Китае отечественных иммерсионных сканеров для глубокого ультрафиолета (DUV). Сообщение появилось спустя сутки после первых публикаций о самой программе, где производитель ещё не назывался. Aishengna основана в августе 2023 года с уставным капиталом 7 млрд юаней (около $1 млрд). По имеющимся данным, компания вобрала в себя инженерные команды Shanghai Yuliangsheng Technology и Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) — единственного в стране разработчика литографического оборудования такого класса.
Источник изображения — tomshardware.com
Название компании раскрыл источник, пожелавший сохранить анонимность; её акционеры — SMEE и Yuliangsheng — на запросы о комментариях не ответили. Крупнейший китайский контрактный производитель SMIC тестирует иммерсионный инструмент от Yuliangsheng с сентября 2025 года. Первые поставки запланированы для самого SMIC, а также для Hua Hong Semiconductor и производителя памяти ChangXin Memory Technologies (CXMT).
Почему сканер — лишь вершина айсберга
Даже готовый сканер не решает задачу целиком: он лишь экспонирует пластину. За нанесение резистивной плёнки, её запекание и проявление рисунка после экспонирования отвечает отдельная трековая система — линия нанесения и проявления фоторезиста. Она должна быть механически и термически согласована со сканером в едином кластере, поэтому оба узла закупаются вместе. И здесь у Китая свои сложности: Tokyo Electron в 2022 году удерживала 89% мирового рынка таких установок (по данным Shared Research на основе отчётности самой компании), а в сегменте оборудования для EUV-производства — до 100%. Китайская Shenyang Kingsemi освоила трековые системы уровня 28 нм и работает над техпроцессом 14 нм.
Не легче ситуация и с расходными материалами. Компании JSR, Tokyo Ohka Kogyo, Shin-Etsu и Fujifilm совместно контролируют 72,5% рынка ArF-фоторезистов, тогда как доля китайских поставщиков в сегменте иммерсионных ArF-резистов не превышает 1%. Nata Opto-electronic построила линию ArF мощностью 25 тонн, позже расширенную до 50 тонн, прошла квалификацию заказчика в декабре 2020 года и завершила приёмку проекта в 2024 году, однако объёмы выпуска остаются незначительными. Xuzhou B&C заявляет, что её иммерсионные ArF-продукты покрывают диапазон от 45 до 28 нм и могут быть доведены до 14 нм, но председатель компании Фу Чживэй отодвигает массовый выпуск ключевых передовых резистов ещё на пять лет.
Похожая картина и с источниками света. Cymer, Gigaphoton и Coherent вместе занимают более 80% рынка ArF-эксимерных лазеров, причём Cymer с 2013 года принадлежит ASML. Beijing RSLaser поставила первый в Китае мощный отечественный эксимерный лазер в 2018 году в рамках национальной программы «Проект 02» и располагает прототипом ArF-лазера на 4 кГц с длиной волны 193 нм, рассчитанным на инструменты уровня 90 и 65 нм — то есть на поколения отстающим от требований иммерсионной литографии 28 нм.
Отдельная болевая точка — оптика. Carl Zeiss SMT остаётся единственным поставщиком проекционной оптики для ASML с 1983 года. Выручка подразделения выросла с €1,2 млрд в 2016 году до €4,1 млрд в 2024 году. Какое японское или европейское оборудование, если оно вообще есть, стоит внутри машин Aishengna, пока неизвестно. Именно прецизионная оптика и эксимерные источники считаются теми областями, где китайское импортозамещение фактически отсутствует.
Что это значит для производства памяти
Ожидается, что CXMT выйдет примерно на 350 000 пластин в месяц к концу 2026 года — это на 25 тысяч меньше, чем у Micron (для сравнения, в 2020 году разрыв составлял 40 тысяч). Масштабирование DRAM на узлах классов 1a и 1b держится на иммерсионном мультипаттернинге — многократном экспонировании, к которому прибегают из-за отсутствия у CXMT доступа к EUV. Из-за этого любой рост упирается именно в литографию, а не в нехватку чистых помещений. При этом контрактные цены на DRAM в первом квартале 2026 года подскочили на 93–98% относительно предыдущего квартала, а по прогнозу TrendForce во втором квартале они прибавят ещё 58–63%. Это способно поднять выручку всей DRAM-индустрии на 81% — до $97 млрд. На таком фоне отечественный иммерсионный источник ценен для CXMT даже при худших показателях совмещения и производительности.
Цена отсутствия EUV
Отсутствие EUV обходится дорого буквально в каждой пластине. Для DUV-техпроцесса 7 нм требуется около 19 фотошаблонов с мультипаттернингом на основе спейсеров — от начальных слоёв до второго уровня металлизации. Для EUV-процесса N7+ их порядка 10 (по одному опубликованному сравнению с техпроцессом SMIC). Аналитики SemiAnalysis оценивают плотность дефектов на 7-нм линии SMIC примерно в 0,14 — вдвое выше, чем у TSMC на N5 и N6. Глава ASML Кристоф Фуке в июльском отчётном звонке связал рост «литографической интенсивности» в производстве DRAM в том числе с постепенной заменой мультипаттернинга более экономичным однократным экспонированием на EUV. Иными словами, каждое дополнительное экспонирование, которым Китай компенсирует отсутствие EUV, «съедает» и без того дефицитные часы работы отечественного парка сканеров.
Тем временем доля Китая в продажах ASML во втором квартале 2026 года упала примерно до 14% — против 33% за весь 2025 год. Обслуживание установленной базы, включая сервис и модернизацию оборудования, принесло €2,8 млрд из €9,3 млрд квартальной выручки компании. Законопроект H.R. 8170 запретил бы и экспорт, и обслуживание иммерсионных DUV-систем по любым адресам в Китае, а также внёс бы SMIC, Hua Hong, Huawei, CXMT и YMTC в список ограниченных субъектов. Бывший глава ASML Петер Веннинк отмечал, что компания способна обслуживать большинство китайских инструментов, но не с использованием запчастей американского происхождения, подпадающих под экспортный контроль. Именно этот механизм и призван расширить закон MATCH Act.
Законопроект и реалистичные сроки
Пока документ остаётся в комитете: Комитет по иностранным делам Палаты представителей одобрил его в апреле, есть и сенатская версия S. 4281, но дата голосования в палате не назначена. Положение о согласовании с союзниками в течение 150 дней затронет и Nikon, которая продала 11 иммерсионных ArF-систем в 2024 финансовом году и ни одной — за первые три квартала 2025-го; новый иммерсионный прототип компания рассчитывает поставить крупному производителю микросхем к 2027 году. Сама ASML в этом году ожидает около 130 иммерсионных поставок и намерена нарастить мощности по выпуску иммерсионных систем на 30% в 2027 году, ещё 30% на 2028-й — в проработке.
История китайских попыток пока не обнадёживает. SMEE собрала прототип ArF-инструмента SSA600 ещё в 2011 году, но так и не вышла на устойчивые коммерческие продажи. Заявление акционера конца 2023 года о разработке машины 28 нм позже было отозвано. SiCarrier на SEMICON China 2025 показала оборудование для травления, CVD, PVD и ALD, но без литографической системы. А декабрьский государственный контракт 2025 года, поданный как победа в области литографии, на деле оказался заказом на KrF-инструмент для уровня 110 нм. По более ранним оценкам, китайские производители оборудования отстают от лидеров рынка более чем на десять лет.
Июньский прогноз AI Futures Project относит появление коммерчески жизнеспособного отечественного иммерсионного сканера уровня 7 нм к периоду с 2032 по 2038 год с медианой в 2035-м. Там же отмечают, что сегодня ASML контролирует 98,7% иммерсионного рынка: пять машин в 2026 году составили бы менее 4% годового объёма иммерсионных систем компании. И каждая из них всё равно потребовала бы трековую линию, квалифицированный иммерсионный ArF-резист и эксимерный источник, чтобы напечатать хотя бы одну пластину. Ни в одном из этих трёх направлений Китай пока не лидирует.
