Китай впервые с 2001 года пересмотрел правила защиты топологий микросхем, ужесточив требования к оригинальности дизайна
Новые нормы позволят отсеивать слабые заявки и выявлять компании, выдающие чужие разработки за «Сделано в Китае»
С 15 октября суды смогут назначать штрафную компенсацию за нарушение прав на топологии микросхем
Обновлённые правила впервые прямо распространяются на топологии фотонных и квантовых интегральных схем
Китай впервые с 2001 года провёл системный пересмотр правил защиты топологий интегральных микросхем (ИМ) — документов, определяющих физическое расположение элементов схемы на кристалле. Как сообщает Reuters, поправки, принятые на 91-м заседании Госсовета КНР 10 июля и подписанные премьером Ли Цяном 23 июля, ужесточают требования к оригинальности дизайна, процедуры регистрации и механизмы защиты от нарушений. Для местных компаний со слабыми инженерными результатами станет сложнее выдавать скопированные у более успешных конкурентов микросхемы за собственную разработку. При этом китайским дизайнерам чипов по-прежнему разрешено размещать производство на Тайване и в Южной Корее.
Топология интегральной микросхемы — это значительный объём инженерной работы, важный даже для компаний, которые занимаются только проектированием чипов, а не их производством. Теперь, чтобы получить правовую защиту, заявка должна подтверждать, что топология разработана независимо, официально удостоверять оригинальность дизайна и указывать, какие именно элементы представляют собой собственный творческий вклад заявителя — вероятно, чтобы регулятор мог отследить, что было лицензировано или заимствовано из открытых источников. Это позволит чиновникам отсеивать необоснованные заявки, отличать компании с реальным технологическим потенциалом и определять, был ли конкретный чип действительно спроектирован и изготовлен в Китае, или его выдают за продукцию «Сделано в Китае», получив на самом деле в другом месте.
Как отмечает китайское юридическое издание China IP Law Update, пересмотренные правила также впервые прямо распространяют защиту на топологии фотонных и квантовых интегральных схем — решений, применяемых в кремниевой фотонике и в квантовых чипах, функциональность которых выходит за рамки классической электронной обработки сигналов. Ранее такие разработки защищались лишь через прецедентную практику; теперь для них появилось прямое основание в тексте регламента. По данным издания, число заявок на регистрацию топологий с фотонными и квантовыми элементами начало расти с 2022 года, а после 2024 года подобные заявки стали подавать массово.
Новые правила также усиливают правоприменение. С 15 октября при рассмотрении споров о нарушении прав суды смогут определять компенсацию либо на основании убытков, понесённых правообладателем, либо на основании прибыли, полученной нарушителем, а также применять штрафную компенсацию. Отдельно уточняются процедуры лицензирования, передачи прав на топологии ИМ и их использования в качестве залога. Организации, разрабатывающие защищённые топологии, обязаны обеспечивать разумное вознаграждение сотрудникам, ответственным за создание этих разработок.
По данным Reuters, сами по себе новые правила не являются экспортными ограничениями, но отражают ту стратегическую значимость, которую Пекин теперь придаёт технологиям, разработанным внутри страны. Ранее китайские власти рассматривали более жёсткие меры — вплоть до запрета на передачу стратегически важных отечественных технологий за рубеж, их приобретение иностранными компаниями или производство за пределами Китая. Если бы такие предложения были одобрены ЦК КПК и правительством, китайские дизайнеры чипов не смогли бы размещать заказы на TSMC на Тайване или на Samsung Foundry в Южной Корее и были бы вынуждены пользоваться исключительно местными контрактными производствами — такими как Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC), Hua Hong и другими, которые по технологическому уровню отстают от лидеров рынка на десятилетия.
Как отмечает South China Morning Post, пересмотр правил — часть более широкой стратегии Пекина по достижению технологического суверенитета в условиях действующих экспортных ограничений США на полупроводниковые технологии. По мнению издания, более чёткие правила лицензирования, передачи прав и совместного владения топологиями должны ускорить коммерциализацию новых разработок чипов внутри страны. При этом, как отмечает Reuters, в опубликованном документе прямо не говорится, что зарубежное производство передовых разработок исключено полностью — этот вопрос, судя по всему, остаётся открытым.
Обновлённые правила вступят в силу 15 октября 2026 года.












