JSR создала совместное предприятие «JSR Micro Advanced Manufacturing Taiwan» с Wah Lee и LCY 7 апреля 2026 года — первое производство компании на Тайване

Прямой запрос TSMC и смена руководства подтолкнули JSR построить завод в уезде Юньлинь — запуск намечен на 2028 год, инвестиции — десятки миллионов долларов

Японские поставщики удерживают около 85% мирового рынка EUV-фоторезистов; JSR контролирует примерно 27% всего сегмента фоторезистов

Государственный фонд JIC выкупил JSR за ¥909 миллиардов ($6,4 миллиарда) в 2024 году и переориентировал компанию исключительно на полупроводниковые материалы

Параллельно JSR запускает в Корее первый в мире промышленный завод оловооксидных фоторезистов (MOR) — поглощение EUV-излучения у них в 5 раз выше, чем у органических аналогов, стойкость к травлению — в 10–100 раз

Производители чипов выводят EUV-литографию к её физическим пределам на нормах 2 нм и ниже — и ключевым узким местом стали передовые химикаты для формирования рисунка схем. Фоторезисты, светочувствительные материалы, которые переносят рисунок схем на кремниевые пластины, приходится заново подбирать под каждый новый техпроцесс, а самые совершенные EUV-резисты выпускаются почти исключительно горсткой японских поставщиков. На фоне рекордных заказов передовых фабрик из-за бума ИИ эти поставщики наперегонки строят мощности рядом с ключевыми клиентами.

(Image credit: TSMC) (Image credit: TSMC)

Совместное предприятие в Юньлинь: что известно

JSR Corporation, японский производитель химикатов с долей мирового рынка фоторезистов около 27%, 7 апреля 2026 года учредил совместное предприятие JSR Micro Advanced Manufacturing Taiwan Co., Ltd. вместе с тайваньскими партнёрами Wah Lee Industrial и LCY Group. Завод разместится в уезде Юньлинь, объём инвестиций оценивается в десятки миллионов долларов, а массовое производство планируется запустить уже в 2028 году. Это первая площадка JSR на Тайване, где до сих пор у компании были только исследовательский и сбытовой офисы.

Решение закрыло разрыв, ставивший JSR в неудобное положение: компания оставалась последним из трёх ведущих японских поставщиков EUV-резистов без производственной базы на Тайване. На новом заводе JSR будет совместно с TSMC разрабатывать передовые фоторезисты, а в перспективе площадку можно расширить и под другие материалы — в частности, абразивы для химико-механической планаризации (CMP).

TSMC попросил — JSR согласился

Поворот в стратегии JSR определили два фактора: прямой запрос TSMC и смена руководства. Председатель Wah Lee Гари Чанг (張尊賢), чья компания работает с JSR более 30 лет, рассказал CommonWealth Magazine, что годами уговаривал японского партнёра построить завод на острове — безуспешно. Согласие пришло только теперь, «потому что TSMC об этом попросил», по словам Чанга: чем сложнее становятся передовые техпроцессы, тем ближе поставщики материалов должны находиться к клиенту.

Не менее важной оказалась фигура нового генерального директора JSR — Тецуро Хори (堀哲朗), вступившего в должность в апреле 2025 года. Хори быстро урегулировал многолетний патентный спор с американской Lam Research, преобразовав его в соглашение о кросс-лицензировании, охватывающее сухой EUV-резист и прекурсоры для травления. «Скорость критически важна», — заявил Хори: до сих пор JSR отправляла образцы резистов с предприятий в Японии, США и Бельгии, и только на транспортировку в обе стороны уходили недели в каждом цикле разработки.

Спустя неделю после объявления о СП, 15 апреля 2026 года, JSR совместно с TSMC и Applied Materials открыла отдельный центр передовых решений по планаризации в Хукоу (уезд Синьчжу). Центр сосредоточен на материалах для CMP — процесса, в котором плоскостность 12-дюймовой пластины должна укладываться в 1 нм. Сам TSMC описывает разделение ролей в этом партнёрстве как «посуда, ингредиенты и повар»: оборудование от Applied Materials, материалы от JSR, интеграция процессов от TSMC.

Новый курс под управлением JIC

JSR больше не является публичной компанией. Japan Investment Corporation (JIC), государственный инвестиционный фонд, в апреле 2024 года завершил тендерное предложение по цене ¥4 350 за акцию, выкупив более 84% акций в обращении. JSR была делистингована с Токийской фондовой биржи 25 июня 2024 года, а слияние оформили в декабре. Общая стоимость сделки составила около ¥909 миллиардов ($6,4 миллиарда).

Под управлением JIC компания агрессивно перенацелилась на полупроводниковые материалы:

  • В 2025 году JSR продала непрофильные активы компаниям Resonac и Tokuyama и полностью вышла из биотехнологического бизнеса, в который годами вкладывалась без должной отдачи.
  • В мае 2024 года была приобретена киотская Yamanaka Hutech — это добавило компетенции в прекурсорах для химического осаждения из газовой фазы (CVD) и атомно-слоевого осаждения (ALD).
  • В 2021 году ещё до выкупа JIC компания JSR заплатила $514 миллионов за американскую Inpria — лидера в технологиях оловооксидных фоторезистов для EUV.

Покупка Inpria сегодня выглядит ключевой: именно она дала JSR технологическую базу для следующего поколения EUV-резистов, на которое теперь делается ставка.

Японская монополия укрепляется

Два крупнейших конкурента JSR уже много лет работают на Тайване в режиме совместной разработки с TSMC. Tokyo Ohka Kogyo (TOK) и Shin-Etsu Chemical, первый и третий по величине поставщики фоторезистов соответственно, держат на острове производственные линии, где их инженеры сидят буквально рядом с технологическими группами TSMC.

Shin-Etsu эксплуатирует линию в Доулю (тот же уезд Юньлинь) и параллельно строит новый завод стоимостью ¥83 миллиарда в Исэсаки (префектура Гумма, Япония). TOK присутствует на Тайване больше десяти лет, а в конце 2025 года объявил о строительстве завода фоторезистов за ¥20 миллиардов в Южной Корее — под нужды Samsung. С появлением площадки JSR в Юньлинь все три ведущих японских производителя либо уже выпускают EUV-резисты на Тайване, либо активно строят там мощности — что только закрепляет японское доминирование в самой узкой части цепочки поставок для передовых чипов.

Каждый новый техпроцесс требует сотен итерационных циклов тестирования между поставщиком резиста и фабрикой: рецептура должна быть точно настроена под конкретные длины волн экспонирования, дозовые профили, химикаты травления и маршруты интеграции. Локальное производство сокращает каждый такой цикл на недели.

MOR на основе оксида олова: химия следующего поколения

В долгосрочной перспективе JSR делает ставку на резисты на основе оксида металла (MOR). Эта химия использует молекулярные строительные блоки на базе оксида олова вместо органических полимеров и фото-генераторов кислот, характерных для химически усиленных резистов (CAR). CAR полагаются на химическое усиление, чтобы компенсировать малое количество высокоэнергетических фотонов, генерируемых источником света на длине волны EUV 13,5 нм. Усиление создаёт размытие из-за диффузии кислоты и ухудшает шероховатость краёв линий по мере уменьшения размеров элементов — упереться в физический потолок CAR в районе нескольких нанометров — лишь вопрос времени.

По данным Inpria, преимущества MOR на основе оксида олова перед органическими CAR измеряются в разы:

  • EUV-фотоны поглощаются примерно в 5 раз эффективнее.
  • Молекулярные строительные блоки примерно в 5 раз меньше, что улучшает разрешение.
  • Стойкость к травлению выше в 10–100 раз, что упрощает интеграцию.
  • MOR совместим с обычным процессом нанесения вращением (spin coating) и существующей оснасткой фабрик.

На конференции SPIE Advanced Lithography 2025 Inpria сообщила о формировании рисунка MOR с шагом до 18 нм и полным переносом через травление, а Imec продемонстрировал дополнительные улучшения дозовой характеристики через регулировку концентрации кислорода на этапе постэкспозиционного отжига.

У MOR есть и серьёзные соперники. Та же Lam Research, с которой JSR теперь обменивается лицензиями, продвигает альтернативную технологию сухого резиста — материал наносится через атомно-слоевое осаждение (ALD), а не вращением. Эту химию ожидают в производстве DRAM-памяти 1d (седьмое поколение 10-нм класса). Samsung, по данным отрасли, изучает MOR не только от Inpria, но и от DuPont, Dongjin Semichem и Samsung SDI — то есть конкуренция за следующее поколение резистов уже идёт полным ходом.

Корейский завод и память 1c DRAM

Первый в мире промышленный завод MOR строится JSR не на Тайване, а в Корее. Площадка в Чхонджу (провинция Северный Чхунчхон), управляемая дочерней JSR Micro Korea, должна начать массовое производство уже в этом году. Главные клиенты — Samsung Electronics и SK hynix; оба производителя памяти планируют внедрить MOR на отдельных слоях для своих 1c DRAM (шестое поколение 10-нм класса).

На каждом таком кристалле используется пять-шесть EUV-слоёв, и на одном-двух из них самые тонкие линии будут рисовать именно оловооксидным резистом. Для производителей памяти это компромиссное решение: MOR пока заметно дороже CAR, и применять его на всех слоях экономически нецелесообразно.

TSMC, A14 и долгая дорога к 1-нм классу

По данным Nikkei, JSR собирается предлагать MOR и для TSMC — но в логике сроки сложнее, чем в памяти. На European Technology Symposium 2025 заместитель главного операционного директора TSMC Кевин Чжан подтвердил, что компания не будет использовать high-NA EUV ни для A16 (1,6-нм класса) в 2027 году, ни для A14 (1,4-нм класса) в 2028-м, продолжая расширять возможности low-NA с помощью многократного экспонирования.

В конце 2025 года появились сообщения о заказах TSMC на high-NA-машины ASML, но речь идёт о версии A14P с тыльной разводкой питания, которая выйдет позже — около 2029 года. Полноценный переход на high-NA SemiAnalysis ожидает только в районе узла A10, то есть в 2029–2030 годах. Это означает, что главная возможность для MOR на логических фабриках TSMC — процессы 1,0-нм класса и далее. В ближайшие пять лет JSR будет, скорее всего, продавать TSMC именно обычные CAR-резисты — пусть и более совершенных рецептур.

Китайские игроки догоняют, но не сейчас

Японские компании в совокупности контролируют примерно 80% мирового рынка фоторезистов всех типов, а на уровне EUV концентрация ещё выше: на JSR, TOK и Shin-Etsu приходится почти 85% объёмов производства. Китайские компании добились заметного прогресса на уровне KrF и i-line, но проникновение на ArF и выше остаётся незначительным — доля отечественных китайских поставщиков ArF и EUV-резистов составляет менее 5%.

Среди компаний, за которыми стоит следить:

  • Hubei Dinglong — крупнейший китайский игрок в области фоторезистов и связанной химии.
  • Xuzhou B&C Chemical, поддержанная инвестиционным подразделением Huawei Hubble Investment; в 2024 году компания заявила о прорыве в разработке 14-нм влажного фоторезиста и метит на массовое производство в течение пяти лет.
  • Jiangsu Nata Optoelectronic — поставщик специализированной электронной химии.
  • Shanghai Sinyang — производитель материалов для электроники, расширяющийся в литографические резисты.

Аналитики, впрочем, считают такие сроки оптимистичными: циклы квалификации клиентов для новых резистов занимают годы, а EUV-резисты требуют не только химии, но и плотной интеграции с конкретным набором техпроцессов фабрики.

«Китайские игроки представляют угрозу, но им потребуется ещё некоторое время, чтобы догнать нас и отвоевать долю рынка», — заявил Nikkei Тору Кимура, старший сотрудник JSR, возглавляющий подразделение электронных материалов компании. Конкретные данные о мощностях завода в Юньлинь, соотношении выпуска MOR и обычных резистов, а также точная сумма инвестиций пока не раскрываются.