В России завершили прототип первого литографа на 130 нм — до серийных чипов ещё годы
Зеленоградский нанотехнологический центр завершил третий этап разработки первой отечественной литографической установки для 200-мм пластин по нормам 130 нм. Прототип пока проходит испытания, обходится примерно в 7,3 млн долларов и, по оценкам, выйдет на серийное производство чипов не раньше 2029 года.
